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結(jié)合飛納臺(tái)式掃描電鏡干粉制劑顆粒檢測(cè)系統(tǒng)，以快速、簡(jiǎn)便的方式實(shí)現(xiàn)顆粒的可視化分析，代表著微觀顆粒分析技術(shù)的一大進(jìn)步?？焖佟⒁子煤统逦上褓|(zhì)量的飛納臺(tái)式掃描電鏡，加上顆粒統(tǒng)計(jì)分析測(cè)量系統(tǒng)的顆粒圖像分析功能，為用戶檢驗(yàn)、分析各種各樣的顆粒、粉末樣品創(chuàng)造了一個(gè)強(qiáng)大工具。

高性價(jià)比掃描電鏡 Phenom Pure 裝配的基本組件可以滿足高分辨率成像的要求，這些基本組件不僅可以保證電鏡高質(zhì)量的成像，而且能夠?qū)崿F(xiàn)快速裝載樣品，短時(shí)間內(nèi)成像。精確的自動(dòng)聚焦和電子束自動(dòng)對(duì)中使飛納電鏡系列成為市場(chǎng)上受用戶歡迎、操作簡(jiǎn)單的智能型掃描電鏡。對(duì)于有高分辨率成像需求的用戶來(lái)說(shuō)， Phenom Pure 可以提供經(jīng)濟(jì)、高效的解決方案。

加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗(yàn)室需要一臺(tái)具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 Phenom ProX 飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過(guò)改進(jìn)光路設(shè)計(jì)，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升級(jí)，易于操作，元素分析更快速。

Phenom Particle Metric顆粒測(cè)試以較快、較簡(jiǎn)便的方式實(shí)現(xiàn)顆粒的可視化分析，是微觀顆粒分析技術(shù)的一大進(jìn)步。快速、易用和超清晰圖像質(zhì)量的Phenom飛納掃描電鏡，加上Particle Metric顆粒系統(tǒng)的顆粒圖像分析功能，為用戶提供了分析顆粒和粉末試樣的強(qiáng)大工具。

荷蘭飛納公司推出第二代肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源臺(tái)式掃描電鏡 Phenom Pharos G2, 集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析功能于一體。高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源，使用戶可以輕松獲得高分辨率圖像，且低電壓性能優(yōu)異。飛納臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 Phenom Pharos G2 低電壓成像優(yōu)勢(shì)明顯，可減輕電子束對(duì)樣品的損傷和穿透，更好地觀測(cè)絕緣和電子束敏感的樣品，可以還原樣品真實(shí)形貌。